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一种在硅衬底上生长无裂纹Ⅲ族氮化物的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-08-30, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  吴洁君;  韩修训;  李杰民;  黎大兵;  陆沅;  王晓晖
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自适应柔性层制备无裂纹硅基Ⅲ族氮化物薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-12-28, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  吴洁君;  黎大兵;  陆沅;  韩修训;  李杰民;  王晓辉;  刘祥林;  王占国
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一种氢致解偶合的异质外延用柔性衬底 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-03-09, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  张志成;  杨少延;  黎大兵;  刘祥林;  陈涌海;  朱勤生;  王占国
Adobe PDF(330Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1463/165  |  提交时间：2009/06/11
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wu JJ;  Han XX;  Li JM;  Li DB;  Lu Y;  Wei HY;  Cong GW;  Liu XL;  Zhu QS;  Wang ZG;  Wu, JJ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jiejunw@red.semi.ac.cn
Adobe PDF(242Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1190/406  |  提交时间：2010/03/17
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Lu W;  Li DB;  Li CR;  Chen G;  Zhang Z;  Lu, W, Jilin Univ, Coll Mat Sci & Engn, Dept Mat Sci, Changchun 130012, Peoples R China. 电子邮箱地址: lw@chen.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  吴洁君;  韩修训;  李杰民;  黎大兵;  魏宏远;  康亭亭;  王晓晖;  刘祥林;  王占国
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制备低温超薄异质外延用柔性衬底的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2004-03-24, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  张志成;  杨少延;  黎大兵;  陈涌海;  朱勤生;  王占国
Adobe PDF(350Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1220/180  |  提交时间：2009/06/11
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JP;  Zhang BS;  Wu M;  Li DB;  Zhang JC;  Jin RQ;  Zhu JJ;  Chen J;  Wang JF;  Wang YT;  Yang H;  Liu, JP, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China.
Adobe PDF(335Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1020/330  |  提交时间：2010/03/09
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Lu W;  Li DB;  Li CR;  Zhang Z;  Li, CR, Chinese Acad Sci, Beijing Lab Electron Microscopy, Inst Phys, POB 603, Beijing 100080, Peoples R China. 电子邮箱地址: crli@aphy.iphy.ac.cn
Adobe PDF(381Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1162/418  |  提交时间：2010/03/09
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Han XX;  Chen Z;  Li DB;  Wu JJ;  Li JM;  Sun XH;  Liu XL;  Han PD;  Wang XH;  Zhu QS;  Wang ZG;  Han, XX, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xxhan@red.semi.ac.cn
Adobe PDF(290Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1046/278  |  提交时间：2010/03/09