SEMI OpenIR  > 光电子研究发展中心
增强聚对二甲苯薄膜与金属层粘附性的方法
裴为华; 国冬梅; 陈远方; 张贺; 陈弘达
专利权人中国科学院半导体所
公开日期2016-08-30
授权国家中国
专利类型发明
学科领域光电子学
申请日期2014-10-14
申请号CN201410541559.5
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27285
专题光电子研究发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
裴为华,国冬梅,陈远方,等. 增强聚对二甲苯薄膜与金属层粘附性的方法.
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增强聚对二甲苯薄膜与金属层粘附性的方法.(277KB) 限制开放使用许可请求全文
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