增强聚对二甲苯薄膜与金属层粘附性的方法 | |
裴为华; 国冬梅; 陈远方; 张贺; 陈弘达 | |
专利权人 | 中国科学院半导体所 |
公开日期 | 2016-08-30 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
学科领域 | 光电子学 |
申请日期 | 2014-10-14 |
申请号 | CN201410541559.5 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27285 |
专题 | 光电子研究发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 裴为华,国冬梅,陈远方,等. 增强聚对二甲苯薄膜与金属层粘附性的方法. |
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增强聚对二甲苯薄膜与金属层粘附性的方法.(277KB) | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 |
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