利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法 | |
丁凯; 张连; 王军喜; 段瑞飞; 曾一平; 李晋闽 | |
专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
公开日期 | 2011-08-31 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
摘要 | 一种利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法,其步骤包括:步骤1:选取一个衬底;步骤2:在衬底上生长低温成核层,利于成核;步骤3:在低温成核层上生长低温缓冲层,可以减少位错密度,提高晶体质量;步骤4:在低温缓冲层上生长极性宽禁带半导体化合物,完成p型金属极性宽禁带半导体的制备。 |
部门归属 | 中科院半导体照明研发中心 |
专利号 | CN201010128387.0 |
语种 | 中文 |
专利状态 | 公开 |
申请号 | CN201010128387.0 |
专利代理人 | 汤保平 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22151 |
专题 | 中科院半导体照明研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 丁凯,张连,王军喜,等. 利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法. CN201010128387.0. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
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